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阻垢劑成分:

   阻垢劑成分有天然分散劑、膦酸、膦羧酸及膦磺酸和有機酸、聚羧酸等高分子聚合物復配制成,另外還有其他幾種輔助成分,主要成分是:

   一、氨基三甲叉膦酸ATMP:

   1、ATMP具有良好的螯合,低限抑制和晶格畸變;

   2、鹽水成垢能防止形成水垢,特別是碳酸鈣垢的形成;

   3、ATMP水和化學性質穩定,不易水解;

   4、在水中濃度較高時,有一個很好的抑制作用。

   二、羥基乙叉二膦酸HEDP:

   1、是一種有機磷酸型阻垢緩蝕劑,能和鐵,銅,鋅等金屬離子形成穩定的絡合物,能溶解金屬氧化物表面上;

   2、HEDP仍可在250℃起到腐蝕和結垢了很好的作用,仍保持穩定在較高的pH值,不易水解,在普通光下熱條件難以分解;

   3、耐酸,耐堿,耐氯氧化比其它有機羧酸(鹽)。

   三、乙二胺四甲叉膦酸鈉 EDTMPS:

   1、是一個含氮有機多元酸,陰極腐蝕抑制劑的一部分,與無機多磷酸鹽,3至5倍的腐蝕速率相比;

   2、與水混合,無毒污染,化學穩定性和耐熱性,在200℃優異的阻垢作用;

   3、在水溶液中EDTMPS可以離解成8個正負離子,因而可以與許多金屬離子螯合,形成兩個以上的聚合物網狀復合物,分散在水中,鈣垢正常結晶破壞。

         

   阻垢劑的各成分主要是通過不飽和單體在引發劑作用下共聚而成,如:

   采用烯醚基聚氧乙烯與馬來酸酐或其衍生物共聚,以羧酸為側鏈,烷氧基為主鏈合成阻垢劑;

   采用馬來酸酐與聚乙二醇制備馬來酸酐單酯,然后酸酐單酯與甲基丙烯酸共聚來制備阻垢劑;

   采用烷氧基聚烷基二醇和丙烯酸甲酯進行酯交換反應,所得的聚合物再與丙烯酸共聚得到阻垢劑;

   用(甲基)丙烯酸與聚乙二醇發生部分酯化,合成有聚合活性的大分子單體,并與其他單體共聚得到帶有聚醚側鏈的聚羧酸型阻垢劑。


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